第223章 复制5nm生产设备

 现如今，次元空间的体积，增大了十倍，达到了一百万立方米，表现出来，就是面积增加了五倍，高度增加了两倍。原来的芯片生产线和各种物品，只占据了空间正中不大一片位置，四周是一片空旷。而复制出来的duv光刻机，就出现在了新出现的空地上。 

 乔瑞达操控意识体，在全新的次元空间内逛了一圈，心里规划着新出现的这些空地，要如何利用。要不弄一套十年后的芯片生产线出来，就在别人还在为28nm芯片的量产而庆贺欢呼的时候，自己这里已经悄悄的完成了5nm芯片的流片测试，这种场景，想想就刺激。 

 十分钟之后，乔瑞达的意识体终于来到了这台崭新的euv光刻机的面前，伸出右手，触摸着光刻机冰冷的金属外壳，和半透明的玻璃观察窗，他激动的心情，久久难以平息。 

 按照乔瑞达前世了解到的信息，早在2006年的时候，阿斯麦就推出了第一代euv（极紫外光刻机）演示机。在2010年时，AsmL推出了第二代euv光刻机nxe:3100。2013年，AsmL推出了量产型号nex:3300B，而2015年又推出了nxe 3350B，但这早期的产品，主要是各大晶圆、研究中心用来测试等，并没有用于芯片的量产。直到2017年，AsmL有了真正的大进步，推出了twinsCAn nxe:3400B，这一代euv光刻机，能够支持7纳米和5纳米节点的euv量产，于是引爆了AsmL市场。 

 受到某些共所周知的限制，以上这些euv光刻设备中的任何一个型号，任何一台，都没有出现在华夏大陆，甚至某些高端的duv光刻机的进口都会受到限制。这也就造成了国内的芯片生产能力，一直严重落后于世界主流水平，高端芯片，一直依赖于进口，经常受制于人。 

 但是现在，在12年的当下，一台国内芯片人极度渴望，价值上亿美刀的euv光刻机，就那么随意的摆在乔瑞达的面前，这让他如何不激动，如何不兴奋。乔瑞达的意识体，围着这台euv光刻机转了一圈又一圈，设备上每一个显示面板，每一个按钮都被他看了一个遍。