第226章 纵论EUV（上）(第2页)

 作为一名芯片制程工艺研究员，周万达太清楚euv光刻机的威力了。当前市面上主流的浸润式duv光刻机，常规加工精度是28nm。即使使用套刻、多次曝光等工艺，duv光刻机的加工精度最多提升到7nm，而且会存在步骤繁琐、加工难度大、良品率低等诸多的缺点。如果有了euv光刻机，那就完全不同了，euv由于采用了极紫外光对硅晶圆进行加工，可以把加工精度做到很小，起步就是7nm，具有加工速度快、良品率高、等优点，生产出来的芯片，性能强大，发热低。后续采用一些其他工艺，还能加工出5nm、3nm，甚至2nm的芯片，绝对是未来芯片加工的发展方向。 

 “咦，周老师，你又没见到euv光刻机的实物，也没进行过任何测试，为何会如此看好这台光刻机，不惜重金也要买一台？”这个型号的euv光刻机的性能，乔瑞达在次元空间内做过测试，这才知道它的厉害。周万达又没做过测试，甚至连这台euv光刻机的样子都没见过，就如此果断的要花钱求购，当真奇怪。 

 周万达嘿嘿一笑，说出了一些乔瑞达不知道的内幕消息，“嘿嘿，这不是见猎心喜吗，euv光刻机，多么高大上的设备，全世界，只有阿斯麦公司能生产，而且只有几台样机，尚未量产交付。如果咱们北大的芯片实验室能够搞到一台，即使不能用于芯片的量产，只用来搞一下尖端芯片的流片测试，和7nm以下芯片加工工艺的摸索，也是赚大了。 

 咱们北大芯片实验室内，那套芯片生产线你也见过，都是五年前的老家伙了，即使我们做了不少的改造升级，生产40nm芯片，已经是它的极限了，在也没有什么潜力可挖。而且存在着生产成本过高，合格率低下等诸多缺陷。早在去年的时候，我和老师，参加了你们瑞达电子厂芯片生产线的安装和调试工作，当时看到你们那套浸润式duv光刻机、和配套生产线，我们就羡慕的不行。回到学校之后，我老师就打报告上去，申请经费，对芯片实验室的生产线，进行更新换代。