第630章 国产1微米光刻机（第16更，吐血求订阅）
“老婆，林蒙科技的1微米光刻机怎么样了？”林棋问道，“好几年了，去年听你说，就剩下少数几个关键的项目没攻克。”
对于蒙欣的能力，他自然是一百个放心，而且经过了长时间的磨合之后，原本那帮牛气冲天的各领域的天才，已经被调教的很好。
实际上，科研领域的人，虽然有不少弄虚作假的。但真正像新创业系或林蒙科技这种商业为主的研发投入，是绝对容不下弄虚作假。
资本对于回报率的重视，必然会用各种办法将假货、水货给排除在外。剩下的，自然就是真正有本事，能做项目的人。
这些人，自然是对水平比自己高的更加福气。
“实际上，已经成功了，过段时间验收完成，就会公布结果了。”蒙欣鬓发还有些散乱，说到这个立马露出几分自豪。
“真的？”林棋立马停住了筷子，这是个令人振奋的消息，光刻机技术一直都是国内市场的短板，长时间被国外把控。
光刻机的品牌众多，但真正的高精尖技术，一直都是技术难点，高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。
高端光刻机堪称现代光学工业之花，制造难度相当大，放眼全球，能够生产的公司也不过寥寥几个，国外品牌主要以荷兰asml（镜头来自德国），日本nikon和日本anon三大品牌为主。
而我国的光刻机起步比较晚，此时只是在萌芽状态。在后世，国产的光刻机，基本上都是低端市场的产品！
很多人为国内的互联网公司骄傲，但却发现，支撑互联网和硬件的那些关键芯片，很多都不能够国产化。
而制造芯片，最关键的又需要光刻机，以及一系列配套的产业。
但光刻机是绝对是重中之重，自主掌握光刻机的制造和技术升级之后，一系列的半导体的产业，就开始有了根，能够真正的围绕着这种核心制造技术不断的发展，精研！
“我们光刻机，基本上整合了国内有想法有能力的团队，集中了全国最有理想的技术人员，以及跨行业跨学科的专家的廉价甚至无偿的技术支持。虽然，我们出钱，但是，国家实际上，也暗中支持了不少资源，没有举国之力，即使我有大量的未来资料，也不能将这种技术实用化！但是，这次出成果之后就简单了，一下子就把我们国家跟国际上的技术差距从十年以上，拉近到了不到3年。主流的技术厂商，比如日本的半导体工厂，用的光刻机就未必比我们先进，所以，激发了国内业界的斗志和信心。以后，再要由我们来主导这种技术攻关，就不是那么难了！”
蒙欣一下子打开了话匣子，光刻机是林蒙多年研发的成果，突破技术封锁很难，而购买专利可不是那么简单的，这个想法不是没有过，不够几家国际公司的报价几乎是天价。