第376章 PMOS(第2页)

 选定了pmos，高振东很快就把工艺路线给确定下来了。

 不要最后一步钝化，4次光刻，只到金属光刻完成为止。

 至于为什么选这个，当然是因为简单了，而且他一开始是做比较粗的制程的，这个程度也就够了。

 而且，少这一步，成本也会下降。

 先把逻辑门电路拿出来，支撑住djs-60d的生产，然后再去搞更好的。

 先解决有没有，再解决好不好。

 选定了这些，抄起书来，那就快了，高振东花了一个下午飞快的把书抄完，第二天一?电话打给了已经有点儿望眼欲穿的1274厂。

 一个多小时过后，吕厂长和鲁总工带着人联袂而至，就等着这一天呢。

 看着高振东给出的工艺设计指导文件，两人有点懵，这玩意比起原来的，怎么还变薄了？

 先进技术，必定复杂，一旦复杂，那资料就会很厚，大家都这么想。

 “高总工，这工艺是先一部分一部分的做，这里是前期我们要做的事情？”鲁总工问道。

 高振东一头雾水，我什么时候说过一部分一部分做了：“没有啊，这里就

是全部了。”

 “全部？”两人大惊失色，这怎么可能？

 高振东笑着把工艺的简单概况给他们解释了一遍，两人陷入了“我不懂，但我大受震撼”的状态之中。

 高振东只好解释了一下：“pmos技术虽然新一点，但是从工艺上来说是要简单一些的，最符合我们现在的情况。”

 鲁总工大喜过望，对着双极型晶体管半导体那复杂的工艺抠掉了半脑袋头发的他，觉得这是今天听到的第一个好消息，也是最好的消息，高总工有才啊。

 “高总工，你是说这个技术，只要这么几次光刻，几十步工序，就能完成双极型半导体要一百多步工序才能完成完成的事情？”

 高振东笑道：“技术的发展其实本来就是这样的，先进不等于复杂，有的先进技术可以简单到我们难以想象。”

 甚至看起来还超级土鳖，高振东心想。

 对于高振东，他们两人还是很相信的，这位说的话，基本上还从来没有落空过。

 “高总工，这太好了，我们需要做什么？”

 高振东道：“我看现在厂里的情况，是有扩散炉的对吧？”

 吕厂长点点头：“是的，这是我们基础生产设备之一，很多。”

 “那最高的温控精度有多高？到得了正负1摄氏度不？”高振东问道，这个精度涉及到扩散掺杂效果。

 这个鲁总工清楚：“这个到不了，有点差距，主要是传感器问题。”

 现在他们用的k型热电偶，测温范围没有问题，但是精度就差不少了，2.5摄氏度或者千分之7.5，对于这个精度要求差了老远。

 高振东想了想，没有推荐b型热电偶，b型的千分之2.5的误差也差点意思，而且反应速度慢。

 “加一个铂电阻吧，间接测量，作为辅助传感器，配合k型热电偶，加上djs-60d跑pid控制算法，应该是能控制得住的。”