第106章 同样受限(第3页)

他的认知有所差异，于是赶紧在脑海中询问ai关于光刻机对称光路设计的相关信息。为了避免出现错误回答，他分别在几个大模型中多次询问，对比了全部答案才确信了解。

 原来最早的投影式光刻机为扫描投影曝光，投影成像的比例为1:1。在生产的时候只通过一次扫描过程，就直接完成整个晶圆的曝光，这种生产方式属于逐片曝光。

 在开始的时候使用这种方式还行，不过由于技术的进步，晶圆尺寸每隔几年就会增加，然后问题就出现了。

 因为这种逐片曝光的方式，有一个最严重的问题，就是如何在越来越大的晶圆上形成精准图像。除开需要制造出更精准的光学器件外，1:1的投影成像比例也是一个问题。

 因为摩尔定律表明，芯片的制程进步速度很快。使用这种1：1投影成像比例的光刻机就要求与芯片同样精度、且投影面积更大的掩模版，这种要求使得更加精细的掩模版制作难度显著提升。

 张红旗搞明白了这一点后，马上追问道：

 “这款设备听起来还行，不过我很好奇，现在最先进的光刻机是哪一家的，为什么不考虑他家的，是设备紧俏还是美国那边在销售上对我们有所限制？”

 张红旗问的这个问题正是鲍启江最近几天烦恼的地方，于是他直接就说明了这几天他遇到的问题。

 “更先进的那家也是美国公司，那家叫gca的公司在1978年推出的步进重复式光刻机。根据他们的宣传，使用他家的光刻机，可以大量节省在掩模版上的投入。

 他们宣称他们的光刻机可以按10：1的比例投影，就因为这个，制作掩模版的时候就不用与集成电路一样精细，制作成本可以大大降低。

 不过可惜的是，现在购买这款光刻机要排队，销售到香江来除了要审批外，还要接受他们派技术人员过来进行管理。”