第57章 跟考试有关的是一点没写(第3页)

就在李暮犹豫不决的时候，台上的老师忽然提醒道。

“来不及了！”李暮瞬间大惊，这要是交白卷上去，肯定玩完。

拿起笔，李暮迅速在纸上开始写原理。

平面工艺的主要特点，其实就是利用光刻技术和二氧化硅膜的掩蔽作用来进行选择扩散和电极的蒸发。

里面的关键难点，就是光刻技术。

不过李暮没必要先证明光刻技术的可行性，m帝那边已经证明这条路是行得通的。

李暮要做的，就是假定条件，然后推导结果。

“嘶~”写着写着，李暮不过在即将画完的时候，李暮的笔又顿了顿。

“差点忘了，后面还有好几场考试呢。”李暮写到一半，忽然发现不对。

这么一股脑地全写上去，后面的考试就没东西写了。

暂时停笔。

等到第二场考试，李暮才继续“推导”：

“用p型杂质元素——如硼元素作为扩散杂质源，在高温下……形成p型扩散区。”

“假定p型扩散基区与原先生长在晶体表面的扎型外延层形成一个p-n结……”