第76章 杰出的后起之秀（求追读）(第2页)

李暮点点头，目光瞥到旁边有块小黑板，于是缓步走过去，拖延时间以便能浏览到更多的内容。

等到在小黑板前面站定，他先把上面写的东西擦了，然后拿起粉笔，写下一段文字：光刻工艺、薄膜沉积工艺、刻蚀工艺、离子注入工艺。

“嗯？”台下有人皱起了眉。

光刻和刻蚀他们倒是知道，但薄膜沉积和离子注入，就比较陌生了。

李暮闻言转过身，道：“这是我根据国外资料，做出的对集成电路工艺难题的推论。”

“哦，推论的依据是什么？你不妨举个例子。”有专家立刻犀利发问。

毫无根据的结果，无法让他们信服。

李暮微微沉吟，然后道：“这四项工艺是我对集成电路成果的逆推，比如薄膜沉积工艺，就是通过晶圆的表面具有各层电路结构倒推而出。”

听完李暮的回答，下面的专家教授们一琢磨，发现好像还真有几分道理，于是又问道：“那么刻蚀呢？又因为什么？”

“在集成电路的形成过程中，需要光刻胶来复制掩膜图形，而刻蚀就是如何正确地选择清除不需要材料的工艺。”李暮笑道。